SGS硅材、靶材和稀土材料纯度测试服务

SGS配备高端洁净室、高端分析仪器和全套在线检测设备,引进世界先进检测经验和系统,以及检测工程师,提供针对半导体工业用硅材和靶材提供成分和杂质的测定服务

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  SGS硅材、靶材和稀土材料纯度测试
  ■  配备高端洁净室、分析仪器       
  ■  先进检测经验和系统
  ■  专业检测工程师
   
   



 

业务挑战

硅材是重要的半导体材料,化学元素符号Si,半导体工业上使用的硅应具有高纯度和优良的电学和机械等性能。

硅材一般以多晶硅或单晶硅存在,用于芯片制造之前会通过拉晶,切片等工艺制成硅片,硅材的纯度,杂质的含量对最终晶圆的质量起决定性影响。

靶材,定义为靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,材料通过溅射到不同的基体,形成特定电性质,物理性质的金属膜材料,在半导体晶圆制造中,200mm( 8寸)及以下晶圆制造通常以铝制程为主,使用的靶材以铝、钛元素为主。300mm( 12寸)晶圆制造,多使用先进的铜互连技术,主要使用铜、钽靶材。

靶材的纯度,直接影响半导体制程和产品的良率。

稀土材料,约占36%储藏在中国。稀土金属,稀有金属和稀散金属组成了三稀金属,应用在工业领域的各个方面,尤其是半导体产业。比如第二代半导体材料砷化镓,碲化铟,第三代半导体材料氮化镓等,稀土金属也被用作抛光材料,氧化铈是抛光粉最常用的材料,在半导体靶材领域,相当一部分採用的是钽靶、钼靶、钨靶等为主。

稀土材料在半导体领域的应用上, 纯度要求与不纯物的管控相当重要。

服务内容

SGS配备高端洁净室、高端分析仪器(半导体专业配置的ICP/MS),引进世界先进检测经验和系统,以及检测工程师,提供针对半导体工业用硅材和靶材提供成分和杂质的测定服务。

解决方案

硅材痕量金属含量测定-ICP/MS法       

 硅材痕量金属含量测定-GD/MS法

● 靶材杂质痕量金属测定-ICP/MS法

● 靶材杂质痕量金属测定-GD/MS法

● 稀土材料痕量金属含量测定-ICP/MS法

● 稀土材料痕量金属含量测定-GD/MS法

我们的优势

完整的问题解决
尖端的分析设备
专业的分析人才
洁净的实验环境
亲切的客户服务
合理的收费标准

 

服务流程

客户提出要求业务代表报价

寄样到实验室

实验室测试

出具报告

售后支持

客户联系实验室

提出详细需求

业务代表报价

和客户签订合同

客户寄样到实验室

实验室测试

按照测试结果

实验室出具报告

售后技术支持和讨论

服务齐全,一站全包
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专业服务,国际权威
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