扫描电镜(SEM)的技术演进之路
扫描电镜的概念和技术起源于20世纪30年代，最早是由德国物理学家Max Knoll和Ernst Ruska首次提出了扫描电子显微镜的概念，经过科学家们不断研究与技术革新，第一台实用化的商品扫描电子显微镜在英国诞生。2002 年，首台高分辨场发射扫描电子显微镜问世，推动了扫描电镜技术的发展。
扫描电镜(SEM)工作原理
SGS扫描电镜(SEM)设备
扫描电镜是利用电子枪发射电子束，高能入射电子轰击样品表面时，被激发的区域将产生二次电子、背散射电子、俄歇电子和特征X射线等信号，通过对这些信号的接受、放大和显示成像，可观察到样品表面的特征，从而分析样品表面的形貌、结构、成分等。
扫描电镜(SEM)原理图
扫描电镜(SEM)主要成像模式
- 二次电子成像(SE)
二次电子是通过被入射电子激发出来的试样原子中的外层电子与样品表面附近的电子发生相互作用，赋予其部分动能后，这些电子便脱离原子核成为自由电子。因为二次电子能量很低，只有靠近试样表面几纳米深度内的电子才能逸出表面，因此主要运用于试样表面形貌观察。
- 背散射电子成像(BSE
背散射电子是通过入射电子在试样中经散射后，再次逸出样品表面的高能电子，其能量接近入射电子能量（通常大于50eV）。高能量的电子束在轰击样品表面，与样品中的原子发生相互作用，产生背散射电子。背散射电子与试样样品的原子序数密切相关，并随着试样原子序数的增大而增大，背散射电子像能够显示出样品的成分衬度，因此主要运用于研究材料的微观结构，成分分析和元素分布。
多元应用：从材料学到半导体的跨领域实践
扫描电子显微镜凭着其高分辨率图像（纳米级）、大景深和多功能（搭配能谱仪EDS）分析能力在多个领域都有着广泛的应用。因其独特的成像方式和性能，使得它在材料学、生物学、半导体与电子器件等多个学科领域中都发挥着至关重要的作用。
扫描电镜(SEM)经典案例赏析
SEM示图
SEM示图（焊点）
EDS示图
EDS示图（元素成分）
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