2025年3月28日,SGS成功举办了“半导体AMC气相分子污染物环境监测与质控研讨会”。本次研讨会汇聚了来自半导体行业的企业代表、专家学者以及相关从业人员,共同探讨如何应对AMC(气相分子污染物)对制程良率的隐形威胁,推动半导体行业在AMC监测与治理领域的技术进步与合作,为提升行业整体水平提供有力支持。

研讨会与会人员合影
随着半导体工艺的快速革新,AMC气相分子污染物对高端芯片制造构成严峻挑战,精准监测与控制AMC成为行业亟待解决的关键问题。本次研讨会汇聚行业专家,共同探讨半导体行业微环境监测与治理的有效方案,助力企业应对成本与技术双重挑战。

研讨会现场
研讨会伊始,欧洲科学院院士、复旦大学特聘教授陈建民,TOF-WERK首席运营官Christoph Eggimann,以及国家技术转移东部中心副总裁朱江分别发表了开场致辞,为研讨会拉开了精彩序幕。

开场致辞
会上,数位业内资深专家带来了精彩纷呈的演讲。从SGS李宗河对半导体环境离线AMC测试方法的细致介绍,到复旦大学王丽娜关于生产环境AMC污染控制研究综述;从Tofwerk China谭稳分享的快速质谱实时检测应用,到清正节能田松对锰基多元催化剂的应用初探,以及复旦大学林景新博士关于大气中气态PFAS检测的讲解,演讲内容围绕AMC监测方法、污染控制、新技术应用等多个关键方向,为与会者呈现了全面且深入的知识盛宴。

嘉宾发表主题演讲
在热烈的学术氛围中,现场互动交流环节气氛活跃。参会人员踊跃提问,与演讲嘉宾就技术难点、行业趋势等问题展开深入探讨。此外,研讨会还安排了参观上海绿色国际低碳概念验证中心,让与会者在实地体验中进一步加深对相关技术与应用场景的理解。

现场交流/参观
本次研讨会不仅为半导体行业专业人士提供了一个交流最新研究成果和实践经验的平台,也为解决AMC污染问题、推动半导体行业高质量发展注入了新动力。未来,SGS将持续关注AMC检测技术在半导体领域的创新与应用,助力半导体行业在应对环境挑战、提升产品质量等方面不断取得新突破。
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