干货分享 | 为什么半导体设备要「深度清洗」？一文带你看懂关键原因

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2026-01-06 17:00:00

技术文章

作者： SGS_SEMI

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在半导体制造过程中，设备零组件的洁净度直接影响晶片良率与制程稳定性。虽然清洗作业多属于幕后流程，却是确保先进制程顺利运作的关键环节。随着微米级、奈米级制程的普及，设备零组件清洗的重要性更是大幅提升。

半导体设备清洗

半导体零组件清洗的核心目标
半导体设备零组件清洗的主要目的，是去除附着在组件表面的各种微污染物，包括：

微米/奈米级颗粒
金属杂质
有机残留
其他化学或物理污染物

清洗工艺的关键特性与要求

超高洁净标准：半导体对洁净度的要求极高，污染物尺寸常需控制在 50nm 以下。尤其光刻、蝕刻等关键设备中，一微粒就可能造成巨量晶片损失。
多工艺组合清洗：单一清洗方式难以满足高洁净要求，因此业界通常采「干洗 + 湿洗」组合方式：
- 干洗（如等离子清洗）负责有机残留去除；
- 湿洗（如 SC1/SC2 标准清洗液）负责颗粒与金属杂质剥离。
材质兼容优先：零部件材质多样（石英、陶瓷、不锈钢、特殊聚合物等），清洗剂与工艺需避免腐蚀、变形或表面特性改变。
无二次污染：包装材料析出物、使用环境中的湿气、化学溶剂侵蚀。

常见应用场
半导体设备中的许多关键组件，都需要定期保养及维修后清洗，例如：

光刻机镜头组件
蚀刻机腔体
真空系统管路
晶圆载台与治具
其他高洁净度要求的设备模块

清洗频率会依据组件材质、制程条件与污染累积情况而定。

目前行业内有众多专业清洗公司提供相关服务，而清洗效果的优劣取决于多重因素：除了科学规范的清洗工艺流程外，清洗公司的清洗环境、清洗液的纯度以及清洗所用超纯水的品质，均为核心影响要素，直接决定最终洁净度是否符合生产要求。

半导体设备清洗

SGS不仅可针对清洗后的零组件进行表面洁净度确认，例如颗粒、离子与有机物等关键指标的检测，也能够对清洗流程中的各项重要环节提供全面把关服务，包括清洗环境的审核、清洗化学液的纯度检测，以及清洗过程中所使用的超纯水品质确认。透过这些贯穿前、中、后段的质量控管措施，协助企业确保清洗流程维持高标准运行，有效降低潜在的制程风险，提升整体生产可靠性。

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